产品用途：此款CVD系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结真空淬火退火，快速降温等工艺实验。

产品用途：此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计，特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究，通过滑动炉实现快速加热和冷却。

CVD系统系周期作业，供企业实验室，大专院校，科研院所等单位选用，设备为用户提供具体真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体，纳米技术，碳纤维等新材料新工艺领域。