PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。

产品应用：该电炉采用红外灯管加热，通过滑动炉体实现快速降温。应用于半导体或太阳能电池基片退火。也可用于快速热退火、快速热氧化、快速热氮化、硅化物合金退火、电极合金化、氧化物生长、离子注入后退火、薄膜沉积等工艺试验 。

操作便捷性：抽气口及气路连接口采用KF式快速连接结构。简化安装过程，只需用卡箍便可完成连接，方便操作 。

真空快速退火炉操作便捷，电热元件采用红外灯管，升温速度快，节省时间，滑动法兰使装卸样品过程简化，方便操作，可快速得到实验结果，取消了反复的法兰安装过程，减少了炉管因安装造成的损坏。

CVD管式炉设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产，CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外，现在正在使用在许多行业，包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域。